Dosimetric characterization of 192Ir source-Leipzig applicators sets for surface cancer treatment with Monte Carlo code MCNP4C

Resumen

Se caracterizó dosimétricamente la fuente Nucletron Classic Ir source junto con 6 aplicadores Leipzig (3 para la carga horizontal de la fuente y 3 para la vertical) realizando simulaciones Monte Carlo. Estos aplicadores son utilizados en tratamientos clínicos para irradiar lesiones superficiales cancerosas y no cancerosas. La caracterización dosimétrica se realizó para cada sistema fuente-aplicador utilizando el código MCNP4C2. Se obtuvieron: la curva del porcentaje de dosis en profundidad, la tasa de dosis máxima y los perfiles de dosis expresados como un porcentaje respecto a la dosis máxima, así como las curvas de distribución de dosis. Las tasas máximas de dosis absorbidas en agua, para una fuente de 370 GBq son: 4.53 cGy/s +- 0.1268, 4.46 cGy/s +- 0.0783, 4.49 cGy/s +- 0.1268 para los aplicadores de 1, 2 y 3 cm de diámetro respectivamente con la fuente en posición horizontal respecto a la superficie de aplicación. Cuando la fuente se encuentra en posición perpendicular respecto a la superficie de aplicación, los valores obtenidos fueron: 2.70 cGy/s +- 0.0393, 2.68 cGy/s +- 0.1226 y 2.65 cGy/s +- 0.1171 para 1, 2 y 3 cm de apertura, respectivamente. Caracterizados los 6 sistemas fuente-aplicador en los ejes longitudinal, transversal y radial, se construyeron las curvas de distribución de dosis de 100%, 95%, 90%, 80%, 70%, 60%, 50%, 40% y 30%. Estas distribuciones se normalizaron a 0.05 cm de profunidad a lo largo del eje central del aplicador. Nuestros valores de tasa de dosis superficial tienen una diferencia relativa máxima de 2.24%, para el aplicador horizontal con 3 cm de apertura, comparados con los de Evans (medidos experimentalmente) y 0.67% con los de León (calculados por MC). Los valores de perfiles de dosis en profundidad, estadísticamente son iguales que los de Evans en la superficie pero difieren en un 0.28% a la profundidad de 2 mm, 2.46% a 5 mm y 5.2% a 10 mm. Los perfiles superficiales de dosis coinciden con los de León y Evans y difieren en un 0.53% a 4 mm de profundidad como máximo. La posición de la fuente es crítica ya que los valores de tasa de dosis máxima diferen considerablemente cuando ésta se encuentra en posición paralela o perpendicular a la superficie de aplicación. Sin embargo, las distribuciones de dois a profundidades menores que 2 mm en ambos casos, son similares, mostrando una diferencia máxima de 1.5%.